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電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備

（光學(xué)膜鍍膜設(shè)備）
高精電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備,在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機(jī)。將滿足客戶需求的多種元件組合在一起，可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜。
產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：
基片傘架采用了每分鐘最多可轉(zhuǎn)60轉(zhuǎn)的中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn))，減少產(chǎn)生振動(dòng)和顆粒，使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。
采坩堝上沒有極片的電子束加熱方式(2臺(tái)電子槍，10kW型)作為蒸發(fā)源，可以穩(wěn)定地形成多層膜。
采用本公司獨(dú)有的比率控制法和多點(diǎn)在線監(jiān)控，可以形成高精度且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜。
可利用操作性良好的升降機(jī)來(lái)取出基片傘架。
產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品詳情
高精密電子束光學(xué)鍍膜設(shè)備（NH-EBEM系列）
NH-EBEM1100TEL NH-EBEM1350TEL NH-EBEM1550TEL
真空室 D1100mm×1150mm (H) D1350mm×1450mm (H) D1550mm×1450mm (H)
工件架 φ1050mm Φ1250mm Φ1450mm
膜厚控制 石英晶體膜厚儀SQC310或IC6 石英晶體膜厚儀STC/3
工件架轉(zhuǎn)速 10rpm to 30rpm(可變)
蒸發(fā)源 電子槍2套
離子源 霍爾離子源/考夫曼離子源
排氣時(shí)間 15分(大氣壓~1.3x10-3 Pa)
膜厚控制 石英晶體膜厚儀SQC310或IC6 石英晶體膜厚儀STC/3
排氣系統(tǒng) 機(jī)械泵+1個(gè)擴(kuò)散泵+Polycold ( 或1個(gè)冷凝泵)
達(dá)到壓力 2.0x104 Pal以下. 		機(jī)械泵+2個(gè)擴(kuò)散泵+Polycold ( 或2個(gè)冷凝泵)
達(dá)到壓力 2.0x104 Pal以下.
基板溫度 最高:120C 最高:350C 最高:350C
電源 3相，380v,50/60Hz,約120KVA 3相，380v,50/60Hz,約120KVA 3相，380v,50/60Hz,約150KVA