無氫鉆石鍍膜設(shè)備 NH-TAC系列 | ||
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NH-TAC850TED | NH-TAC1000TED | |
真空室尺寸 | D850X900 | D1000X1100 |
均勻可鍍區(qū) | D500XH500 | D650XH650 |
極限真空度 | 3.0*E-4Pa | |
壓升率 | 0.1Pa/hr | |
轉(zhuǎn)架形式 | 標(biāo)配兩套轉(zhuǎn)架系統(tǒng)+周轉(zhuǎn)小車 采用整進(jìn)整出形式 | |
沉積裝置 | 平衡磁控或非對稱磁控+高能脈沖過濾電弧 | |
離子輔助裝置 | 燈絲離子源+陽極層離子源 | |
真空檢測 | 復(fù)合真空計(jì)+薄膜真空規(guī) | |
加熱系統(tǒng) | 400℃,3根熱電偶監(jiān)測 | |
冷卻水循環(huán)系統(tǒng) | 配日本SMC水流開關(guān),智能控制 IPC+PLC全自動控制 | |
控制系統(tǒng) | 觸摸式 手動 全自動 帶自動暖機(jī) 智能無人值守關(guān)機(jī)聯(lián)動系統(tǒng) | |
極限載重 | 300KG | 500KG |
生產(chǎn)運(yùn)行周期 | 涂層(2um), 5-8小時(shí)/爐 | 涂層(2um), 5-8小時(shí)/爐 |