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小型實驗真空鍍膜設備

(科學實驗設備)
科學實驗用小型真空鍍膜機,適用于材料、物理、電子、能源、機械等學科領(lǐng)域的科學研究與技術(shù)開發(fā),主要用于功能薄膜材料與器件的制備以及材料的表面處理。產(chǎn)品種類主要包括磁控濺射實驗設備、真空蒸鍍實驗設備以及手套箱集成真空鍍膜設備。

產(chǎn)品優(yōu)點:
實驗用真空鍍膜機具有外形美觀、結(jié)構(gòu)緊湊、占地面積小、易維護的特點??蓪崿F(xiàn)全自動控制或手動控制、操作簡單可靠,可自動完成各種鍍膜工藝參數(shù)。
薄膜性能穩(wěn)定、鍍層附著力好,鍍層細膩致密,表面光潔度高,且均勻性一致性良好。
基底和薄膜材料選擇廣泛、可沉積多層膜,可沉積金屬、陶瓷、有機類薄膜材料。
可將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設備里,既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜,同時又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其汽化再沉積在基材上成膜,增加了設備的用途和靈活性。
可將真空鍍膜機與惰性氣氛手套箱集成,整個鍍膜工藝、及后續(xù)的器件制備與封裝都在真空與惰性氣氛下進行,適用于對水氧敏感的有機半導體材料及鈣鈦礦材料的制備。
產(chǎn)品詳情
產(chǎn)品詳情
小型實驗真空鍍膜機NH-EVA系列
  NH-EVA300TEP NH-EVA500TEP NH-EVA800TEP
真空室尺寸 Ф300×H300mm Ф500×H500mm Ф800×H800mm
有效鍍膜區(qū)域 Ф100mm Ф200mm Ф500mm
蒸發(fā)源種類 點源 點源/線源
極限壓力 8×10-5pa 5×10-4pa
蒸發(fā)方式 電子束蒸發(fā)、電阻熱蒸發(fā)或者兩者復合
蒸發(fā)源數(shù)量 1-12套,每個蒸發(fā)源配獨立擋板
膜厚控制 石英晶體膜厚儀,4通道,4個晶振探頭
在線掩膜版 在線切換,厚度0.3mm,定制化圖案,與基片零距離
真空系統(tǒng) 機械泵+分子泵(或冷泵)
控制方式 PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面,實現(xiàn)全自動控制
應用領(lǐng)域 金屬、無機、有機材料的蒸鍍與器件制備,可用于OLED、QLED、有機光伏、鈣鈦礦電池/LED等器件研發(fā)與中試